說(shuō)一說(shuō)真空鍍膜與光學(xué)鍍膜的區別

　　一、真空鍍膜：

　　真空鍍膜是真空應用領(lǐng)域的一個(gè)重要方面，它是以真空技術(shù)為基礎，利用物理或化學(xué)方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。簡(jiǎn)單地說(shuō)，在真空中把金屬、合金或化合物進(jìn)行蒸發(fā)或濺射，使其在被涂覆的物體(稱(chēng)基板、基片或基體)上凝固并沉積的方法，稱(chēng)為真空鍍膜。

　　真空鍍膜則是相對于上述的濕式鍍膜方法而發(fā)展起來(lái)的一種新型鍍膜技術(shù)，通常稱(chēng)為干式鍍膜技術(shù)。

　　二、光學(xué)鍍膜：

　　光學(xué)鍍膜是指在光學(xué)零件表面上鍍上一層(或多層)金屬(或介質(zhì))薄膜的工藝過(guò)程。在光學(xué)零件表面鍍膜的目的是為了達到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。常用的鍍膜法有真空鍍膜(物理鍍膜的一種)和化學(xué)鍍膜。

　　光學(xué)鍍膜是用物理或化學(xué)的方法在材料表面鍍上一層透明的電解質(zhì)膜，或鍍一層金屬膜，目的是改變材料表面的反射和透射特性。

　　三、從上面可以得知，真空鍍膜與光學(xué)鍍膜的區別有以下2點(diǎn)：

　　1、真空鍍膜是以真空技術(shù)為基礎，利用物理或化學(xué)方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)。而光學(xué)鍍膜是用物理或化學(xué)的方法在材料表面鍍上一層透明的電解質(zhì)膜，或鍍一層金屬膜，目的是改變材料表面的反射和透射特性。

　　2、真空鍍膜是真空應用領(lǐng)域的，而光學(xué)鍍膜是指在光學(xué)零件表面上鍍上一層(或多層)金屬(或介質(zhì))薄膜的工藝過(guò)程。