PVD鍍膜三大分類(lèi)：真空濺射鍍膜、真空離子鍍膜、真空蒸發(fā)鍍膜。

　　PVD鍍膜所使用的設備：通常叫做PVD真空鍍膜設備或者是PVD真空鍍膜機

　　PVD鍍膜原理：處在真空環(huán)境下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用對蒸發(fā)源的加熱或者利用輝光放電、離子轟擊使鍍制材料沉積在需鍍制的產(chǎn)品表面。

　　PVD鍍膜能夠鍍制的膜層：它能夠鍍制各種單一的金屬膜層(金、銀、鋁、鋅、鈦等)，氧化物膜層(TiO等)，碳化物膜層(TiC、TiCN等)，氮化物膜層(TiN、CrN、TiAiN等)，膜層顏色可以是單色也可以鍍制七彩色。膜層厚度為微米級，真空鍍膜的厚度較薄，鍍制的膜層幾乎不影響產(chǎn)品的尺寸。

　　真空濺射鍍膜：

　　輝光放電時(shí)濺射技術(shù)的基礎，濺射一般都是在輝光放電過(guò)程中產(chǎn)生的，濺射是用帶有高動(dòng)能的粒子或者離子束轟擊固體表面，使靠近固體表面的原子獲得入射粒子所 ,帶能量的一部分而脫離固體進(jìn)入真空并沉積在產(chǎn)品上。

　　影響濺射效果的因素：1.靶材;2.轟擊離子的質(zhì)量;3.轟擊離子的能量;4.轟擊原子的入射角。

　　真空離子鍍膜：

　　離子鍍是在蒸發(fā)鍍和濺射鍍基礎上產(chǎn)生的新鍍膜技術(shù)，真空PVD鍍膜過(guò)程都是在等離子體中進(jìn)行的，離子鍍可以獲得優(yōu)異性能的膜層，其膜層特點(diǎn)：

　　1.表面光潔度好，沉積的厚度可以嚴格控制;

　　2.膜的附著(zhù)力強，結合力高;

　　3.膜層厚度均勻，無(wú)邊界效應;

　　4.膜層的致密度高。

　　真空蒸發(fā)鍍膜：

　　在真空室內，對蒸發(fā)源的薄膜原材料進(jìn)行加熱從而形成原子或者分子蒸氣流入射到產(chǎn)品表面凝結形成固態(tài)薄膜的方法。

　　優(yōu)點(diǎn)：蒸發(fā)設備較便宜，操作簡(jiǎn)單，成膜速率快，鍍制的膜層純度高、質(zhì)量好并且可以控制厚度;

　　缺點(diǎn)：膜層附著(zhù)力較低，工藝重復性不夠好，不容易獲得結晶結構的薄膜層。

　　對于這三種PVD鍍膜工藝來(lái)說(shuō)，不同的產(chǎn)品需要選擇不同的工藝，配置專(zhuān)門(mén)的設備。