CCZK-SF磁控濺射鍍膜機，具備成膜速率高，基片溫度低，膜的粘附性好，可實(shí)現大面積鍍膜相對于傳統蒸發(fā)鍍膜設備，磁控濺射鍍膜可獲得更為優(yōu)秀的膜層致密性，均勻性和結合力采用最為先進(jìn)的直流或中頻磁控濺射電源，滿(mǎn)足不同層次客戶(hù)需求

　　腔體結構： 立式前開(kāi)門(mén)，臥式前開(kāi)門(mén)。

　　材質(zhì)用料：腔體材質(zhì)為SUS304不銹鋼或碳鋼

　　真空系統： 擴散泵(可選分子泵)+羅茨泵+機械泵+維持泵(另有深冷泵系統可供選擇)

　　濺射靶材： 中心圓柱靶，平面靶，孿生靶等

　　磁控電源： 可配備直流或中頻磁控濺射電源

　　轉動(dòng)系統： 變頻調速，公自轉結合，可根據客戶(hù)產(chǎn)品和要求設計

　　膜層結構： 單層膜、多層膜

　　氣體控制： 氣體流量控制儀集成觸控操作控制

　　人機界面： PLC智能控制+HMI觸摸屏

　　操作方式： 邏輯全自動(dòng)方式、半自動(dòng)方式、手動(dòng)方式

　　智能控制： PLC智能控制+HMI全彩人機觸控界面，實(shí)現全自動(dòng)控制

　　報警及保護：異常情況進(jìn)行報警，并執行相應保護措施。