真空鍍膜是由專(zhuān)用真空鍍膜機完成的,其工作流程及原理為:基片通過(guò)鍍膜機的機械手的搬運,進(jìn)入到鍍膜機的真空腔體里,經(jīng)過(guò)高壓電離的氬離子在強電場(chǎng)及強磁場(chǎng)的作用下,產(chǎn)生高速運動(dòng),轟擊靶材表面,激發(fā)出的金屬離子附著(zhù)在基片表面,形成一層反射膜。

　　基礎的真空鍍膜知識：

　　1.真空:用真空泵抽掉容器中的氣體,使空間內低于一個(gè)大氣壓的氣體狀態(tài)，也就是該空間的氣體分子密度低于該地區大氣壓的氣體分子密度。

　　2.真空中殘存氣體的稀薄程度,就是真空程度的高低,即真空度。通常用壓力表示單位(Pa)

　　3.1Pa就是1m2面積上作用1N的壓力。1大氣壓=1.03×105Pa

　　4.壓升率：?jiǎn)挝粫r(shí)間內，真空度降低的速率。單位：Pa/h

　　5.真空泵的抽氣簡(jiǎn)稱(chēng)抽速)(單位：L/S) :當泵裝有標準試驗罩并按規定條件工作時(shí)，從試驗罩流過(guò)的氣體流量與在試驗罩上指定位置測得的平衡壓力之比。

　　6.極限真空度：(單位：Pa):在規定條件工作，在不引入氣體正常工作的情況下，趨向平穩的最低壓強。