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發(fā)布時(shí)間:2019-04-29真空鍍膜設備廠(chǎng)家講解真空鍍膜是什么原理?
真空鍍膜設備主要指需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜,具體包括很多種類(lèi),包括真空離子蒸發(fā),磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種。
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真空鍍膜設備主要指需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜,具體包括很多種類(lèi),包括真空離子蒸發(fā),磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種。