離子鍍的工藝原理有哪些

　　對于我們的離子鍍，其是真空鍍膜工藝的一項新發(fā)展，普通真空鍍膜(亦稱(chēng)真空蒸鍍)時(shí)，工件夾固在真空罩內，當高溫蒸發(fā)源通電加熱后，促使待鍍材料——蒸發(fā)料熔化蒸發(fā)。

　　由于溫升，蒸發(fā)料粒子獲得一定動(dòng)離子鍍能，則沿著(zhù)視線(xiàn)方向徐徐上升，最后附著(zhù)于工件表面上堆積成膜。用這種工藝形成的鍍層，與零件表面既無(wú)牢固的化學(xué)結合，有無(wú)擴散連接，附著(zhù)性能很差，有時(shí)就像桌面上落的灰塵一樣，用手一摸也會(huì )擦掉。

　　然而，離子鍍工藝則有所不同，雖然也是在真空罩內進(jìn)行的，但這時(shí)鍍膜過(guò)程是以電荷傳遞的形式來(lái)實(shí)現的。也就是說(shuō)，蒸發(fā)料的粒子作為帶正電荷的高能離子在高壓陰極(即工件)的吸引下，以很高的速度注入到工件表面。相當于一個(gè)從射出的高速彈頭，可以穿入基體很深，在工件上形成一種附著(zhù)牢固的擴散鍍層。離子鍍的作用過(guò)程如下:蒸發(fā)源接陽(yáng)極，工件接陰極，當通以三至五千伏高壓直流電以后，蒸發(fā)源與工件之間產(chǎn)生弧光放電。

　　由于真空罩內充有惰性氬氣，在放電電場(chǎng)作用下部分氬氣被電離，從而在陰極工件周?chē)纬梢坏入x子暗區。帶正電荷的氬離子受陰極負高壓的吸引，猛烈地轟擊工件表面，致使工件表層粒子和臟物被轟濺拋出，從而使工件待鍍表面得到了充分的離子轟擊清洗。隨后，接通蒸發(fā)源交流電源，蒸發(fā)料粒子熔化蒸發(fā)，進(jìn)入輝光放電區并被電離。帶正電荷的蒸發(fā)料離子，在陰極吸引下，隨同氬離子一同沖向工件，當拋鍍于工件表面上的蒸發(fā)料離子超過(guò)濺失離子的數量時(shí)，則逐漸堆積形成一層牢固粘附于工件表面的鍍層。這就是離子鍍的簡(jiǎn)單作用過(guò)程。