離子鍍基本工藝流程

　?、俟ぜ念A熱.

　　一般的離子鍍方法使用烘烤加熱裝置對工件進(jìn)行加熱，而熱陰極離子鍍則是利用等離子電子束轟擊工件;電弧離子鍍是利用金屬離子轟擊工件，對工件加熱，達到預熱的目的，有時(shí)電弧離子鍍也采用輔助烘烤加熱裝置對工件進(jìn)行預熱。

　?、陔x子轟擊濺射清洗.

　　一般離子鍍的離子轟擊濺射清洗是基片施加負偏壓，利用輝光放電產(chǎn)生的氬離子轟擊基片，對基片進(jìn)行離子轟擊濺射清洗，而熱陰極離子鍍是利用等離子電子束轟擊輔助陽(yáng)級，氬離子轟擊基片進(jìn)行離子轟擊濺射清洗;電弧離子鍍是利用金屬離子轟擊工件，對工件加熱的同時(shí)對工件進(jìn)行離子轟擊濺射清洗。

　?、垭x子沉積.

　　不同的離子鍍方法在離子沉積時(shí)，所使用的源和離化方法不同，具體的設備不同，沉積的膜層不同，其工藝程序和工藝參數也不同，因此，應根據具體情況確定沉積的工藝程序和工藝參數，還應注意在整個(gè)沉積過(guò)程中保持工藝參數的穩定。