有關(guān)濺射鍍膜機的技術(shù)特點(diǎn)

　　對于我們的濺射鍍膜機，我們要提高濺射鍍膜的速率，關(guān)鍵是提高靶材的濺射率，這就必須提高等離子體的電離度，即在相同的放電功率下，獲得更多的離子，從離子轟擊靶面的濺射產(chǎn)物看，除了擊出原子或分子外，還擊出二次電子，這些電子被電場(chǎng)加速后與氣體原子或分子發(fā)生碰撞又引起氣體電離。

　　其充分利用二次電子的能量是提高等離子體電離度的有效途徑，射頻濺射是采用頻率為13.56MHZ的高頻交變電場(chǎng)使氣體放電產(chǎn)生等離子體。對于絕緣靶材射頻濺射最具優(yōu)勢。濺射鍍膜機是利用熱絲弧光放電增強輝光放電產(chǎn)生等離子體，但三極濺射難以實(shí)現大面積均勻鍍膜，工業(yè)上未獲得廣泛應用。

　　濺射鍍膜機技術(shù)是用離子轟擊靶材表面，把靶材的原子被擊出的現象稱(chēng)為濺射。濺射產(chǎn)生的原子沉積在基體表面成膜稱(chēng)為濺射鍍膜。通常是利用氣體放電產(chǎn)生氣體電離，其正離子在電場(chǎng)作用下高速轟擊陰極靶體，擊出陰極靶體原子或分子，飛向被鍍基體表面沉積成薄膜。目前人們開(kāi)發(fā)出了濺射速率較高的射頻濺射、三極濺射和磁控濺射技術(shù)。