多靶離子束濺射鍍膜機是研究超導、類(lèi)金剛石、光學(xué)、磁性等高質(zhì)量薄膜和材料表面改性的光機一體化的現代化鍍膜設備。該機采用四靶、雙離子源、離子源為考夫曼源。其原理是利用具有1500ev能量的正離子束或中性粒子轟擊靶材料，使材料表面的原子和分子從母材中濺射出來(lái)，沉積在基片上成膜?？慑冎迫我獠牧?，包括金屬、合金、超導體、半導體、絕緣體等。該機采用80年代剛剛發(fā)展起來(lái)的離子束濺射技術(shù)，利用雙離子源、主槍?zhuān)瑢Π胁霓Z擊，輔槍在鍍前對基片進(jìn)行清洗，增強基片的活性，提高結合力及純度。沉積過(guò)程中低能轟擊膜，增強沉積原子表面擴散和遷移，減少薄膜結晶結的缺陷，并配有對基片處理的各種功能，如加熱、冷卻、旋轉、激光處理、掩膜等。引出柵φ25mm離子能量，1500ev能量束流大于80mA。

　　多靶離子束濺射鍍膜機系統在高精度光學(xué)薄膜沉積應用中處于領(lǐng)先地位。多靶離子束濺射鍍膜機是當今僅存的在同一系統可互換使用行星型，簡(jiǎn)單旋轉型或可翻轉型基片裝置的系統。

　　在通信應用上，能用于沉積高產(chǎn)值的200，100和50GHz 具有窄通帶, 寬截止頻帶, 高隔離度, 低插損特性的DWDM濾波器，滿(mǎn)足最為嚴格的性能指標。在其它高精度光學(xué)應用上，多靶離子束濺射鍍膜機能用于沉積增透膜，復雜的非四分之一波長(cháng)膜層，以及吸收和散射低于百萬(wàn)分位的超低損耗激光鏡。