真空鍍膜設備有哪些特點(diǎn)呢

　　1、由于真空鍍膜設備的不斷改進(jìn)，鍍膜過(guò)程可以實(shí)現連續化，從而大大地提高產(chǎn)品的產(chǎn)量，而且在生產(chǎn)過(guò)程中對環(huán)境無(wú)污染。

　　2、各種真空鍍膜設備技術(shù)都需要一個(gè)特定的真空環(huán)境，以保證制膜材料在加熱蒸發(fā)或濺射過(guò)程中所形成蒸氣分子的運動(dòng)，不致受到大氣中大量氣體分子的碰撞、阻擋和干擾，并消除大氣中雜質(zhì)的不良影響。

　　3、每種真空鍍膜設備的薄膜都可以通過(guò)微調閥精確地控制鍍膜室中殘余氣體的成分和質(zhì)量分數，從而防止蒸鍍材料的氧化，把氧的質(zhì)量分數降低到最小的程度，還可以充入惰性氣體等，這對于濕式鍍膜而言是無(wú)法實(shí)現的。

　　4、由于在真空鍍膜設備，所以薄膜的純度高、密實(shí)性好、表面光亮不需要再加工，這就使得薄膜的力學(xué)性能和化學(xué)性能比電鍍膜和化學(xué)膜好。

　　5、各種真空鍍膜設備技術(shù)都需要有一個(gè)蒸發(fā)源或靶子，以便把蒸發(fā)制膜的材料轉化成氣體。由于源或靶的不斷改進(jìn)，大大擴大了制膜材料的選用范圍，無(wú)論是金屬、金屬合金、金屬間化合物、陶瓷或有機物質(zhì)，都可以蒸鍍各種金屬膜和介質(zhì)膜，而且還可以同時(shí)蒸鍍不同材料而得到多層膜。