什么是真空鍍膜設備呢

　　真空鍍膜設備主要指一類(lèi)需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類(lèi)，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。

　　其主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種，需要鍍膜的被成為基片，鍍的材料被成為靶材，基片與靶材同在真空腔中。蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來(lái)，并且沉降在基片表面，通過(guò)成膜過(guò)程(散點(diǎn)-島狀結構-迷走結構-層狀生長(cháng))形成薄膜。

　　如果是對于濺射類(lèi)鍍膜，可以簡(jiǎn)單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來(lái)，并且最終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過(guò)程，最終形成薄膜。

　　真空鍍膜設備每完成200個(gè)鍍膜程序以上，應清潔工作室一次，可以用燒堿(NaOH)飽和溶液反復真空鍍膜設備擦洗真空室內壁，( 注意人體皮膚不可以直接接觸燒堿溶液，以免灼傷)目的是使鍍上去的膜料鋁(AL)與NaOH發(fā)生反應，反應后膜層脫落，并釋放出氫氣，再用清水清洗真空室和用布沾汽油清洗精抽閥內的污垢。