真空鍍膜設備主要分類(lèi)有兩個(gè)大種類(lèi)：

　　真空鍍膜設備蒸發(fā)沉積鍍膜和濺射沉積鍍膜，具體則包括很多種類(lèi)，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，溶膠凝膠法等等

　　一、對于蒸發(fā)鍍膜：

　　一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來(lái)，并且沉降在基片表面，通過(guò)成膜過(guò)程(散點(diǎn)-島狀結構-迷走結構-層狀生長(cháng))形成薄膜。

　　厚度均勻性主要取決于：

　　1、基片材料與靶材的晶格匹配程度

　　2、基片表面溫度

　　3、蒸發(fā)功率，速率

　　4、真空度

　　5、鍍膜時(shí)間，厚度大小。

　　組分均勻性：

　　蒸發(fā)鍍膜組分均勻性不是很容易保證，具體可以調控的因素同上，但是由于原理所限，對于非單一組分鍍膜，蒸發(fā)鍍膜的組分均勻性不好。

　　晶向均勻性：

　　1、晶格匹配度

　　2、基片溫度

　　3、蒸發(fā)速率

　　二、.對于濺射類(lèi)鍍膜，可以簡(jiǎn)單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來(lái)，并且終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過(guò)程，終形成薄膜。

　　濺射鍍膜又分為很多種，總體看，與蒸發(fā)鍍膜的不同點(diǎn)在于濺射速率將成為主要參數之一。

　　濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld，組分均勻性容易保持，而原子尺度的厚度均勻性相對較差(因為是脈沖濺射)，晶向(外沿)生長(cháng)的控制也比較一般。以pld

　　為例，因素主要有：靶材與基片的晶格匹配程度、鍍膜氛圍(低壓氣體氛圍)、基片溫度、激光器功率、脈沖頻率、濺射時(shí)間。對于不同的濺射材料和基片

　　參數需要實(shí)驗確定，是各不相同的，鍍膜設備的好壞主要在于能否精確控溫，能否保證好的真空度，能否保證好的真空腔清潔度