多弧離子鍍膜機的電弧蒸發(fā)源原理是通過(guò)一個(gè)冷陰極自持電弧放電，是一種場(chǎng)致發(fā)射。蒸發(fā)源的典型的基本配置為：受鍍基材與陰極相接，陽(yáng)極接真空室，待真空室抽到到高些的真空狀態(tài)、觸發(fā)電極啟動(dòng)器接觸打開(kāi)，形成一個(gè)穩定的電弧放電于陽(yáng)極和陰極之間。而在陰極的表面覆蓋有很多快速移動(dòng)的陰極斑，斑直徑在1μm到兩微米之間，還有直徑約10μm的光斑，有每秒移動(dòng)幾十米的速度，電流之間密度為10 A/cm-10 A/cm，極間電壓也降低到20V-40V之間。

　　于陰極斑的前面是一些等離子體，電子飛速移至陽(yáng)極，離子是處于一種相對靜止在鍍膜空間中，陰極斑前方的正離子集合成正空間電荷，于陰極表面附近形成10 v/cm10 v/cm的強度電場(chǎng)，用以克服在陰極的勢壘，以強電子發(fā)射來(lái)維持放電，但一些離子因為被陰極轟擊而導致了陰極斑的局部快速蒸發(fā)、離化，從而使陰極斑變?yōu)槲Ⅻc(diǎn)的蒸發(fā)源。在陰極靶的范圍內，由于絕緣屏蔽和磁場(chǎng)的作用而使這些微點(diǎn)蒸發(fā)源在該范圍內做無(wú)規則運動(dòng)，也就形成了均勻的大面積蒸發(fā)源。

　　所謂多弧離子鍍膜機就是用多個(gè)電弧蒸發(fā)源為核心的一種離子鍍膜設備，通常又叫多弧鍍膜、弧鍍、電弧鍍膜等