真空鍍膜機需要先測試設備的抽真空速度，在測試過(guò)程中檢查漏氣情況與各真空泵的性能;然后再測試設備的密封性能，就是抽到極限后保壓1小時(shí)看壓降是否達標，同時(shí)排除細小的漏孔;第三步，產(chǎn)品試作，檢驗其他的性能，比如傳動(dòng)、加熱、絕緣等等;如果有工藝保證的話(huà)就繼續打樣并作測試;并且所有的測試應作記錄，并有記錄人簽字以及有使用部門(mén)或工程部門(mén)的人確認簽字即可。對于不同原理的真空鍍膜，影響均勻性的因素也不盡相同。并且均勻性這個(gè)概念本身也會(huì )隨著(zhù)鍍膜尺度和薄膜成分而有著(zhù)不同的意義。

　　在光學(xué)薄膜的尺度上看，真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當好，可以輕松將粗糙度控制在可見(jiàn)光波長(cháng)的1/10范圍內。原子層尺度上的均勻度，也就是說(shuō)要實(shí)現10A甚至1A的表面平整，是現在真空鍍膜中主要的技術(shù)含量與技術(shù)瓶頸所在對于多弧離子鍍膜機的光學(xué)特性來(lái)說(shuō)，真空鍍膜沒(méi)有任何障礙。鍍膜中化合物的原子組分會(huì )由于尺度過(guò)小而很容易的產(chǎn)生不均勻特性，那么實(shí)際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學(xué)成分，這也是真空鍍膜的技術(shù)含量所在。對于晶格有序度的均勻性，這決定了薄膜是單晶，多晶，非晶，是真空鍍膜技術(shù)中的熱點(diǎn)問(wèn)題