真空鍍膜的過(guò)程中噴點(diǎn)形成的原因
2020-01-08 來(lái)自: 肇慶高要區恒譽(yù)真空技術(shù)有限公司 瀏覽次數:1045
真空鍍膜的過(guò)程中有時(shí)會(huì )產(chǎn)生噴點(diǎn)及潮斑(花斑),這些噴點(diǎn)、潮斑(花斑)影響了薄膜的品質(zhì),降低產(chǎn)品的合格率。本文將對噴點(diǎn)、潮斑(花斑)的形成原因作一探討。
一、噴點(diǎn)形成的原因
鍍膜過(guò)程中產(chǎn)生噴點(diǎn)主要有以下幾種原因:
1、鍍膜材料純度不高,含雜質(zhì)較多,預熔過(guò)程中無(wú)法將這些雜質(zhì)去除,蒸鍍過(guò)程中雜質(zhì)濺上工件表面形成噴點(diǎn)。
2、材料較為潮濕,預熔時(shí)電子槍光斑不能將表面的材料全部熔化,在蒸鍍過(guò)程中也容易產(chǎn)生噴點(diǎn)(這種情況在用國產(chǎn)電子槍鍍制MgF2及一些直接升華的材料時(shí)較易發(fā)生)。
3、鍍膜前對材料進(jìn)行預熔時(shí)不夠充分,蒸鍍過(guò)程中材料里的細小顆粒濺上工件表面形成噴點(diǎn)。
4、鍍膜過(guò)程中,電子槍束流過(guò)大引起的材料飛濺產(chǎn)生的噴點(diǎn)。