真空鍍膜設備主要指需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類(lèi)，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。

　　真空鍍膜的工作原理是膜體在高溫下蒸發(fā)落在工件表面結晶。由于空氣對蒸發(fā)的膜體分子會(huì )產(chǎn)生阻力造成碰撞使結晶體變得粗糙無(wú)光，所以必須在高真空下才能使結晶體細密光亮，如果真空度不高結晶體就會(huì )失去光澤結合力也很差。早期真空鍍膜是依靠蒸發(fā)體自然散射，結合差工效低光澤差?，F在加上中頻磁控濺射靶用磁控射靶將膜體的蒸發(fā)分子在電場(chǎng)的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜，解決了過(guò)去自然蒸發(fā)無(wú)法加工的膜體品種，如鍍鈦鍍鋯等等。

　　中頻設備必須加冷卻水進(jìn)行冷卻，原因是它的頻率高電流大。電流在導體流動(dòng)時(shí)有一個(gè)集膚效應，電荷會(huì )聚集在電導有表面積，這樣會(huì )使電導發(fā)熱，所以采用中孔管做導體中間加水冷卻。

　　從更深層次研究電子在非均勻電磁場(chǎng)中的運動(dòng)規律   ,探討了磁控濺射的更一般原理以及磁場(chǎng)的橫向不均勻性及對稱(chēng)性是磁約束的本質(zhì)原因。磁控濺射可以被認為是鍍膜技術(shù)中突出的成就之一。特點(diǎn)是濺射率高、基片溫升低、膜-基結合力好、裝置性能穩定。

　　冷水機能控制真空鍍膜機的溫度，以保證鍍件的高質(zhì)量。如果不配置冷水機就不能使真空鍍膜機達到高精度、高效率控制溫度的目的，因為自然水和水塔散熱都不可避免地受到自然氣溫的影響，而且此方式控制是極不穩定的。