卷繞鍍膜機真空抽氣系統分上室下室兩組，下室為蒸鍍室，要求真空度高，主泵多為油擴散泵。上室為基材卷繞室，要求真空度較低，為羅茨泵機組或擴散泵一羅茨泵一機械泵組。一般蒸鍍室要達到的真空度為1x10^-3Pa—2×10^-3Pa，而工作壓力為1×10^-2Pa—2×10^-2Pa，而卷繞室真空度通常較蒸鍍室低一個(gè)數量級。有時(shí)卷繞鍍膜機以增擴泵(油擴散泵的一種)為主泵，它的極限壓力雖然不及油擴散泵，但其抽速范圍向高壓方向延伸一個(gè)數量級，非常適宜此類(lèi)蒸發(fā)的鍍膜過(guò)程。

　　進(jìn)行鍍膜機結構設計的時(shí)候注意卷繞鍍膜機的帶狀基材的線(xiàn)速恒定問(wèn)題。這一問(wèn)題也很重要，因為只有卷繞機構保證帶狀基材的線(xiàn)速恒定，才能使基材上鍍層厚度均勻。這一點(diǎn)對制備帶狀基材的功能性膜(如電容器膜)尤為重要。帶狀基材的跑偏和起褶問(wèn)題也要進(jìn)行注意，隨著(zhù)卷繞速度的提高，帶狀基材在卷繞鍍膜過(guò)程中，起褶和發(fā)生偏斜，嚴重時(shí)會(huì )造成基材的斷裂，使生產(chǎn)中斷，既影響生產(chǎn)效率，又浪費材料。因此，在卷繞機構的設計中應充分考慮這一問(wèn)題。

　　同時(shí)要注意卷繞鍍膜機設計的時(shí)候要注意提高卷繞速度的問(wèn)題。卷繞速度即是帶狀基材運動(dòng)的線(xiàn)速度，它是卷繞機構的一個(gè)主要技術(shù)指櫟。國內早期鍍膜機卷繞速度只有10m/min，現在也只有80m/min～120m/min，在國外日本的EW系列產(chǎn)品中，其卷繞速度已達到300m/min，德國L.H公司生產(chǎn)的鍍膜機已達到600m/min，可見(jiàn)隨著(zhù)鍍膜技術(shù)的發(fā)展，卷繞速度有待提高。