在使用磁控鍍膜機的時(shí)候，使用通常的濺射方法，發(fā)現濺射效率都不是非常的高。為了提高濺射的效率，加快工作的進(jìn)度。

　　那么該如何加快這種設備的使用效率呢?這就需要增加氣體的理化效率。增加氣體的離化效率能夠有效的提高濺射的效率。

　　通常在健身過(guò)程中，經(jīng)過(guò)加速的入射離子轟擊靶材陰極表面的時(shí)候，會(huì )產(chǎn)生電子發(fā)射，而這些在陰極表面產(chǎn)生的電子開(kāi)始向陽(yáng)極加速進(jìn)入負輝光區，和中性氣體原子進(jìn)行碰撞，產(chǎn)生的自持的輝光放電所需離子。電子在平均只有程隨著(zhù)電子能量的增大而增大，隨著(zhù)氣壓的增大而減小，特別是在遠離陰極的地方產(chǎn)生，它們的熱壁損失也是非常大的，這主要是因為其離化效率低。

　　因此可以加上一平行陰極表面的磁場(chǎng)就能夠將電子限制在陰極范圍內，能夠有效的增加氣體原子的梨花效率，從而提高磁控濺射鍍膜設備的濺射效率。