磁控濺射光學(xué)鍍膜機廣泛應用于塑料制品、陶瓷、樹(shù)脂、水晶玻璃制品等、工藝品、塑料手機殼、電子產(chǎn)品、建材等行業(yè)。 該系列設備主要是使用直流(或中頻)磁控濺射，可適應廣泛鍍膜靶材，如：銅、鈦、鉻、不繡鋼、鎳等金屬材料， 可以利用濺射工藝進(jìn)行鍍膜，可提高膜層的附著(zhù)力、重復性、致密度、均勻度等特點(diǎn)。

　　可利用時(shí)間控制薄膜厚度，達到設計工藝要求，節省晶控，光控環(huán)節，為客戶(hù)省去大量的膜厚儀耗材;可生產(chǎn)高折射率氮化薄膜，提高薄膜硬度性能;低溫成膜，可應對各種用途;自動(dòng)調節氣體流量專(zhuān)利裝置，保持穩定的靶電壓，保證成膜品質(zhì);可選校正板外部調節機構。

　　磁控濺射鍍膜機濺射沉積系統在側壁上裝有多個(gè)圓柱形靶材，以提高沉積速率和多層涂層，該系統配備有直流脈沖或射頻功率圓形陰極，垂直安裝的基板和圓柱形陰極地減少涂層過(guò)程中的顆粒污染。AR 膜(基材玻璃透過(guò)率>91.5%)，420-680nm波段，單面平均透過(guò)率>95%，反射率小于0.5(平均值)% ;雙面平均透過(guò)率>98%，反射率小于0.5(平均值)%;顏色膜或漸變色膜： 以客戶(hù)樣板為準，連續五爐隨機位置裝片或滿(mǎn)爐，1.2;水煮測試：水煮 80℃30min，3M 百格測試(1*1mm)后大于 4B。