磁控濺射卷繞鍍膜機技術(shù)由于覆蓋領(lǐng)域廣泛，雖然比蒸發(fā)卷繞鍍膜機技術(shù)起步晚，但發(fā)展極為迅速，在未來(lái)的高科技領(lǐng)域和環(huán)保節能領(lǐng)域將大有可為。

　　磁控濺射卷繞鍍膜是采用磁控濺射(直流、中頻、射頻)的方法把各種金屬、合金、化合物、陶瓷等材料沉積到柔性基材上，進(jìn)行單層或多層鍍膜。磁控濺射卷繞鍍膜設備與蒸發(fā)卷繞鍍膜設備相比，生產(chǎn)效率較低、設備成本高，這是由鍍膜原理所決定的。但磁控濺射具有鍍膜溫度低、可任意位置安放多個(gè)靶連續鍍多層膜、鍍膜材料適應范圍寬、膜層厚度可控、細膩、均勻、附著(zhù)牢固等優(yōu)點(diǎn)。