通過(guò)加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面，稱(chēng)為蒸發(fā)鍍膜。這種方法最早由M.法拉第于1857年提出，現代已成為常用鍍膜技術(shù)之一。蒸發(fā)鍍膜與其他真空鍍膜方法相比，具有較高的沉積速率，可鍍制單質(zhì)和不易熱分解的化合物膜。用作真空蒸發(fā)鍍的裝置稱(chēng)為蒸發(fā)鍍膜機。

　　為了提高鍍層厚度的均勻性，真空室內的鍍件夾具有行星機構或自轉加公轉的運動(dòng)裝置，如用行星運動(dòng)方式，這種運動(dòng)方式成膜均勻性好，臺階覆蓋性能良好，鍍件裝載量大，可以充分利用真空鍍膜室的有效空間，是目前經(jīng)常采用的運動(dòng)方式。蒸發(fā)鍍膜機主要由真空室、排氣系統、蒸發(fā)系統和電氣設備四部分組成。