實(shí)驗室用小型蒸發(fā)鍍膜機

　　用作真空蒸發(fā)鍍的裝置稱(chēng)為蒸發(fā)鍍膜機。蒸發(fā)鍍膜機主要由真空室、排氣系統、蒸發(fā)系統和電氣設備四部分組成。

　　真空室是放置鍍件、進(jìn)行鍍膜的場(chǎng)所，直徑一般為400~700mm，高400~800mm，用不銹鋼或碳鋼制作，有水冷卻裝置。

　　真空中制備膜層可防止膜料和鍍件表面的污染，消除空間碰撞，提高鍍層的致密性和可制備單一化合物的特殊功能的鍍層。

　　為了提高鍍層厚度的均勻性，真空室內的鍍件夾具有行星機構或自轉加公轉的運動(dòng)裝置，如用行星運動(dòng)方式，這種運動(dòng)方式成膜均勻性好，臺階覆蓋性能良好，鍍件裝載量大，可以充分利用真空鍍膜室的有效空間，是目前經(jīng)常采用的運動(dòng)方式。

　　排氣系統一般由機械泵、擴散泵、管道和閥門(mén)組成。為了提高抽氣速率，可在機械泵和擴散泵之間加機械增壓泵。因此，排氣系統既要求在較短的時(shí)間內獲得低氣壓以保證快速的工作循環(huán)，也要求確保在蒸氣鍍膜時(shí)迅速排除從蒸發(fā)源和工作物表面所產(chǎn)生的氣體。

　　蒸發(fā)系統包括蒸發(fā)源和加熱蒸發(fā)源的電氣設備。電氣設備包括測量真空和膜層厚度及控制臺等。