真空鍍膜機首要指一類(lèi)需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類(lèi)，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射堆積等很多種。首要思路是分紅蒸發(fā)和濺射兩種。

　　需要鍍膜的被變成基片，鍍的材料被變成靶材。 基片與靶材同在真空腔中。

　　蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子方法被蒸發(fā)出來(lái)，而且沉降在基片表面，經(jīng)過(guò)成膜進(jìn)程(散點(diǎn)-島狀結構-迷走結構-層狀生長(cháng))構成薄膜。 對于濺射類(lèi)鍍膜，可以簡(jiǎn)略理解為運用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子方法被濺射出來(lái)，而且畢竟堆積在基片表面，履歷成膜進(jìn)程，畢竟構成薄膜。