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發(fā)布時(shí)間：2021-01-22磁控濺射鍍膜設備能夠應用于哪些方面呢?
磁控濺射鍍膜設備在硬質(zhì)涂層中的應用：比如說(shuō)切削工具、磨具和耐磨耐腐蝕等配件。在防護涂層中的應用：飛機發(fā)動(dòng)機的葉片、汽車(chē)鋼板、散熱片等。
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發(fā)布時(shí)間：2021-01-12磁控濺射鍍膜技術(shù)在陶瓷表面裝飾中采用的工藝流程
磁控濺射鍍膜設備配合NCVM工藝，能夠實(shí)現對于陶瓷電子消費品的表面裝飾處理，在保證陶瓷強度和硬度的同時(shí)，也能夠提升其美觀(guān)性和藝術(shù)性，好地滿(mǎn)足消費者的個(gè)性化需求
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發(fā)布時(shí)間：2020-12-16磁控濺射鍍膜機磁控濺射技術(shù)的應用范圍
磁控濺射目前是一種應用十分廣泛的薄膜沉積技術(shù)，濺射技術(shù)上的不斷發(fā)展和對新功能薄膜的探索研究，使磁控濺射應用延伸到許多生產(chǎn)和科研領(lǐng)域。在微電子領(lǐng)域作為一種非熱式鍍膜技術(shù)，主要應用在化學(xué)氣相沉積(CVD)或金屬有機化學(xué)氣相沉積(MOCVD)生長(cháng)及不適用的材料薄膜沉積，而且可以獲得大面積非常均勻的薄膜。
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發(fā)布時(shí)間：2020-11-18磁控濺射鍍膜設備原理及發(fā)展起源
磁控濺射鍍膜設備的工作原理要從一開(kāi)始的“濺射現象”說(shuō)起。人們由起初發(fā)覺(jué)“濺射現象”發(fā)展至“濺射鍍膜”此間歷經(jīng)了相當長(cháng)的發(fā)展時(shí)間，濺射現象早在19世紀50年代的法拉第氣體放電實(shí)驗就已經(jīng)發(fā)現了
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發(fā)布時(shí)間：2020-11-18磁控濺射鍍膜機廣泛應用塑料制品、陶瓷等行業(yè)
磁控濺射光學(xué)鍍膜機廣泛應用于塑料制品、陶瓷、樹(shù)脂、水晶玻璃制品等、工藝品、塑料手機殼、電子產(chǎn)品、建材等行業(yè)。
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發(fā)布時(shí)間：2020-11-11磁控濺射鍍膜常見(jiàn)毛病及解決辦法
磁控濺射鍍膜常見(jiàn)毛病及解決辦法 1.無(wú)法起輝 (1)直流電源毛病，查看直流電源; (2)氬氣進(jìn)氣量小，查看氬氣流量計或加大氬氣進(jìn)氣量; (3)真空室清潔度不行，清潔真空室;
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發(fā)布時(shí)間：2020-11-09磁控濺射鍍膜機鍍膜原理
磁控濺射鍍膜機使用磁控濺射鍍膜靶源，無(wú)論是非平衡式還是平衡式的磁控濺射鍍膜靶源，如果是靜止的磁鐵產(chǎn)生的磁場(chǎng)功對材的利用率會(huì )小于30%。
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發(fā)布時(shí)間：2020-09-16淺析磁控鍍膜機磁控濺射鍍膜靶電源的空載電壓影響因素
淺析磁控鍍膜機磁控濺射鍍膜靶電源的空載電壓影響因素 (1) 靶電源輸出的空載電壓主要供磁控靶“點(diǎn)火起輝”用，其峰值電壓大體可分為三擋，即：800V-1KV-1.2(或1.3)KV左右。
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發(fā)布時(shí)間：2018-01-04磁控濺射鍍膜機?技術(shù)規格特點(diǎn)
磁控濺射技術(shù)是最常用的一種物理氣相沉積技術(shù)。磁控濺射鍍膜機可用于制備金屬、半導體、絕緣體等多種薄膜材料，具有設備成熟、易于控制、鍍膜面積大、附著(zhù)力強等優(yōu)點(diǎn)，因此被廣泛使用。
肇慶高要區恒譽(yù)真空技術(shù)有限公司 