卷繞鍍膜機的功能特性有哪些

　　現在我們的卷繞鍍膜機至少包括一個(gè)鍍膜真空室，置于鍍膜真空室之外的卷材放卷機構和收卷機構，其特征是在鍍膜真空室與卷材放卷機構和收卷機構之間有至少一個(gè)帶材進(jìn)出通過(guò)的真空通道，真空通道由窄縫阻尼通道和真空抽氣室組成的真空鎖構成。

　　新型卷繞鍍膜機卷材放卷機構和收卷機構置于真空室之外，真空鎖和窄縫阻尼通道密封可靠，壽命長(cháng)，設備制造成本低，能進(jìn)行連續生產(chǎn)，鍍膜機能在塑料薄膜、金屬板材表面進(jìn)行單層或多層鍍膜，且獲得的鍍膜表面微觀(guān)結構非常致密，表面平滑。

　　卷繞鍍膜機在等離子體束濺射中，濺射離子均勻刻蝕靶面，并且不會(huì )使靶面產(chǎn)生氧化。與磁控濺射相比，其中的等離子體束是由射頻等離子體源產(chǎn)生的，磁場(chǎng)的作用則是使等離子體束會(huì )聚并偏轉至靶面。

　　因此，雖然等離子體束濺射鍍膜系統內也有磁場(chǎng)，但其磁場(chǎng)卻并不控制影響濺射，這也摒棄了磁控濺射中由磁場(chǎng)不均勻帶來(lái)的“磁控”的缺點(diǎn)。