真空鍍膜機蒸發(fā)加熱目標表面成分自由基或離子形式被蒸發(fā)，并在襯底表面處理，成膜過(guò)程(散射-島結構的迷走神經(jīng)結構層狀生長(cháng))形成薄膜。

　　蒸發(fā)鍍膜成分均勻性不易保證，與特定的因素可以控制，但由于有限的原理，對非單組分涂料，蒸發(fā)鍍膜成分均勻性不好。 濺射可以簡(jiǎn)單地理解為電子或高能激光轟擊目標的使用，使得表面成分的自由基或離子形式濺射，并沉積在襯底表面的成膜過(guò)程中，經(jīng)驗，最終形成薄膜。真空鍍膜機的設備 濺射被分為許多類(lèi)型，在濺射速率不同點(diǎn)和蒸發(fā)將成為一個(gè)主要的參數。

　　激光濺射PLD濺射涂層的成分均勻性，易于維護，和原子尺度的厚度均勻性較差(因為脈沖濺射)，晶體取向(外)生長(cháng)的控制也更一般的。