真空鍍膜設備鍍鋁工藝的要求
2017-09-06 來(lái)自: 肇慶高要區恒譽(yù)真空技術(shù)有限公司 瀏覽次數:1262
真空鍍膜機 真空鍍鋁是在真空狀態(tài)下,將鋁金屬加熱熔融至蒸騰,鋁原子凝結在高分子材料外表,構成極薄的鋁層。真空鍍鋁請求基材外表潤滑、平坦、厚度均勻;挺度和摩擦系數恰當;外表張力大于38Dyn/Cm2;熱性能好,經(jīng)得起蒸騰源的熱輻射和冷凝熱的效果;基材含水量低于0.1%。
工藝要求:真空度不得低于103PA,避免呈現褐色條紋或鋁層厚度不均表象;操控好體系張力,敞開(kāi)冷卻體系,避免薄膜受熱呈現拉伸變形;準確操控卷取速度(280~320m/min)、送鋁速度(0.4~0.7m/min?2mm鋁絲)及蒸騰舟加熱電流,以取得商品請求的鋁層厚度(100~300A°);可預先在薄膜上涂布必定干量的底膠,并充沛枯燥,再經(jīng)真空鍍鋁,可進(jìn)步鋁層與薄膜的結合力。然后在鋁膜上涂布必定量的維護樹(shù)脂,避免鋁層氧化蛻變。經(jīng)此技術(shù)構成的鍍鋁薄膜,耐摩擦,且不易蛻變。