磁控鍍膜機濺射鍍膜膜厚均勻性特性

　　濺射鍍膜膜厚均勻性是間接衡量鍍膜工藝的最終標準之一，它涉及鍍膜過(guò)程的各個(gè)方面。因此，制備膜厚均勻性好的薄膜需要建立一個(gè)濺射鍍膜膜厚均勻性綜合設計系統，對濺射鍍膜的各個(gè)方面進(jìn)行分類(lèi)、歸納和總結，找出其內在聯(lián)系。一般來(lái)說(shuō)，設計系統的建立應該具備的原則，以確定其基本的組織框架。以下從四個(gè)方面敘述其性質(zhì)：

　?、僖话阈裕阂笙到y在范圍內是適用或者普遍存在的。對于本課題來(lái)說(shuō)，系統能夠滿(mǎn)足工業(yè)上平板基片濺射鍍膜的基本工藝要求，即濺射鍍膜工藝過(guò)程的共性問(wèn)題。

　?、谔厥庑裕合到y對特定研究對象達到的適用性。針對大面積平板基片濺射鍍膜來(lái)說(shuō)，就是濺射鍍膜中的尺寸效應成為系統重要部分，如薄膜均勻性，基片加熱的均勻性，材料的線(xiàn)性膨脹和變形，靶面的電流分布，氣體分布和電磁場(chǎng)分布等。這一系列問(wèn)題被尺寸效應突顯出來(lái)。因此尺寸效應成為系統的個(gè)性問(wèn)題。

　?、坶_(kāi)放性：系統各部分是有機結合并不斷發(fā)展的。隨著(zhù)技術(shù)的進(jìn)步，各部分功能必然會(huì )得到進(jìn)一步發(fā)展，從而使系統的綜合性能得到提高。自動(dòng)控制技術(shù)的發(fā)展使系統的功能變得強大：濺射過(guò)程中對等離子體光譜的監控技術(shù)，以及對電磁場(chǎng)的操縱能力使得系統對整個(gè)濺射過(guò)程的參數控制程度達到限度，可以實(shí)現精細設計。系統的開(kāi)放性屬于橫向發(fā)展。

　?、芾^承性：系統發(fā)展到程度，就會(huì )發(fā)生由量變到質(zhì)變的過(guò)程。系統在保汪原有功能基礎上不斷完善和提高。薄膜制備技術(shù)會(huì )隨著(zhù)理論的發(fā)展而逐步深入。對非平衡磁控濺射和等離子體理論研究，促進(jìn)了濺射技術(shù)的進(jìn)一步發(fā)展。隨之而來(lái)的是對系統進(jìn)行升級改造，以實(shí)現新的功能。繼承性是系統的縱向發(fā)展。